東谷Ｄ論の図版など 2006年2月24日
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夜光輝線アトラス （zJ500、HK500）
焦点面に置いてからの時間経過に対する収縮率の変化
カルッセル内での冷却時間に対する収縮率の変化（焦点面にいれた直後の収縮率で比較）
CALフラットとドームフラットのスペクトル
グリズム効率（業者からもらったもの）
輝線分解能（輝線幅を測定したもの）
ロングスリットでのピクセルに対する波長分布（2005年12月版）
レーザ加工でのインプットとアウトプットの関係
赤方偏移と輝線シフト
マスクフレーム（名称付き）
マスクの収縮率を求める概念図
MOS手順（全体版、分割版）
レーザでカットしたスリットの拡大図（0.6"スリット、幅300um、長さ4.7mm）
解析手順
MOSの絵
MOSの絵（各部名称、センサーの配置）
装置全体（中身） 名称付き
装置全体（外側） 名称付き
デュワー内の典型的な温度と圧力の推移（予冷時＋定常時）
デュワー内の典型的な温度と圧力の推移（昇温時）
SXDSプレイメージ 2005年10月版
分光の例
・マスクイメージ
・zJ500スペクトルイメージ
・HK500スペクトルイメージ
・スカイ差し引きイメージ（ディザーの差し引きのみ、zJ500、540秒積分）
・スペクトル
zJ500(0.7hr), HK500(2.3hr)
zJ500(2.2hr),HK500(2.3hr)
zJ500(1.8hr)
焦点面に置いてからの時間経過に対する収縮率の変化
カルッセル内での冷却時間に対する収縮率の変化（焦点面にいれた直後の収縮率で比較）
CALフラットとドームフラットのスペクトル
グリズム効率（業者からもらったもの）
輝線分解能（輝線幅を測定したもの）
ロングスリットでのピクセルに対する波長分布（2005年12月版）
レーザ加工でのインプットとアウトプットの関係
赤方偏移と輝線シフト
マスクフレーム（名称付き）
マスクの収縮率を求める概念図
MOS手順（全体版、分割版）
レーザでカットしたスリットの拡大図（0.6"スリット、幅300um、長さ4.7mm）
MOSの絵
MOSの絵（各部名称、センサーの配置）
装置全体（中身） 名称付き
装置全体（外側） 名称付き
デュワー内の典型的な温度と圧力の推移（予冷時＋定常時）
デュワー内の典型的な温度と圧力の推移（昇温時）
SXDSプレイメージ 2005年10月版
分光の例
・マスクイメージ
zJ500(2.2hr),HK500(2.3hr)
zJ500(1.8hr)
